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hyposulfurous
【化】 sulfoxylic acid
【醫】 dithionous acid; hyposulfurous acid
次硫酸(Sulfoxylic acid)是一種無機含氧酸,其化學性質及漢英對照定義如下:
次硫酸的英文名稱為"Sulfoxylic acid",化學式為$text{H}_2text{SO}_2$。其分子結構中含有一個硫原子和兩個羟基(-OH)基團,硫的氧化态為+2。
次硫酸屬于弱酸,穩定性較低,常溫下易分解為二氧化硫($text{SO}_2$)和水($text{H}_2text{O}$)。其酸性強于亞硫酸($text{H}_2text{SO}_3$),但弱于硫酸($text{H}_2text{SO}_4$)。在水溶液中,次硫酸僅短暫存在,常作為中間體參與氧化還原反應。
次硫酸在工業中主要用于制備硫代硫酸鹽(如$text{Na}_2text{S}_2text{O}_3$),并作為有機合成的還原劑。此外,其衍生物(如次硫酸鈉)在紡織印染領域用于漂白和脫色工藝。
次硫酸及其鹽類需避光密封保存,避免與強氧化劑接觸。分解産生的二氧化硫具有刺激性,操作時需佩戴防護裝備。
參考來源:
次硫酸(H₂SO₂)是一種理論上的含硫化合物,其性質及存在形式在學術界有明确界定,以下是綜合解釋:
次硫酸的化學式為H₂SO₂,其中硫的氧化态為+2。根據和,次硫酸作為遊離酸尚未被成功制備,隻能以鹽的形式(如次硫酸鹽)存在。例如,通過加熱環乙亞砜可短暫生成次硫酸酐(SO氣體),但其穩定性極低()。
實驗室中曾嘗試通過加熱環乙亞砜(C₂H₄SO)生成次硫酸酐(SO),但産物壽命極短,僅能以固态聚合物形式短暫存在()。
需注意次硫酸(H₂SO₂)與亞硫酸(H₂SO₃)的區别:前者硫為+2價,後者為+4價,兩者化學性質差異顯著( )。
由于遊離酸難以穩定存在,次硫酸的研究主要集中于其鹽類及配位化合物,在材料化學和催化領域有一定潛在價值( )。
總結來看,次硫酸是一種理論性強、實際存在形式受限的化合物,其研究對理解硫的中間氧化态化學行為具有重要意義。
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