电流刻蚀英文解释翻译、电流刻蚀的近义词、反义词、例句
英语翻译：
【电】 galvanic corrosion
分词翻译：
电流的英语翻译：
electric current; electrical current; electricity
【计】 I
【化】 current; electric current; electric current (strength)
【医】 current; electric current; rheo-
刻蚀的英语翻译：
【计】 etch
网络扩展解释
电流刻蚀
电流刻蚀(dian liu ke xi)，也叫化学机械研磨（Chemical Mechanical Polishing，CMP），是一种在制造微电子学器件和集成电路芯片中广泛使用的工艺技术，用于平整金属和氧化物表面，以便进行精细的图案制作。
英语解释翻译
英文解释：Electrochemical Mechanical Planarization
英文翻译：电化学机械平面化
英文读音：[ɪˌlɛktrəʊˌkɛmɪkəl mɪˈkænɪkəl ˌplænəraɪˈzeɪʃən]
英文的用法
Electric Current Etching也叫做Chemical Mechanical Polishing，是目前 semi-conductor industry 中用来平整化微观蚀刻深度与线宽的主要技术之一。
英文例句
例句1：Electrochemical Mechanical Planarization or Chemical-Mechanical Polishing (depending on the system) is an essential technique for the majority of VLSI technology nodes that require one or more levels of copper interconnects.
中文翻译：根据系统的不同，电化学机械平面化或化学机械抛光是大多数需要一个或多个铜互连级别的 VLSI 技术节点的基本技术之一。
例句2：Patterns of the present connection lines could be precisely transferred to the bottom ITO layers through a combination of chemical mechanical polishing and followed etching process by means of a photolithography process.
中文翻译：通过光刻工艺的化学机械抛光和随后的蚀刻过程，可以精确地将现有连接线的图案转移到底部的 ITO 层。
英文近义词
英语近义词：Chemical-mechanical planarization，CMP
中文解释：电化学机械平面化，化学机械研磨
英文反义词
英语反义词：Electrochemical Etching
中文解释：电化学蚀刻
英文单词常用度
根据维基百科，"Electrochemical Mechanical Planarization" 的搜索量在谷歌上每月约有1,600次，属于一般使用频率的术语。