电子束印刷英文解释翻译、电子束印刷的近义词、反义词、例句
英语翻译：
【计】 electron beam printing
分词翻译：
电子束的英语翻译：
【计】 E beam
【化】 electron beam
【医】 electron beam
印刷的英语翻译：
presswork; print; printing; strike off
【计】 imprinting
网络扩展解释
电子束印刷
电子束印刷（diàn zǐ bèi yìn）是一种高精度、高效率的印刷技术，它利用电子束投射在感光材料表面上，形成微小的图案，再通过化学反应进行图案转移和定着。
Electron Beam Lithography
电子束印刷的英语翻译为“Electron Beam Lithography”，通常缩写为“EBL”。电子束指的是高速电子流，Lithography则是印刷技术的意思。
在英语中，该技术也可以被描述为一种“microfabrication”或“nanofabrication”的方法。这些词可以用来描述微小的模式和结构的制造。
英文读音为：“ɪˈlektrɒn biːm ˈlɪθəɡrəfi”。
英文用法
EBL通常被用于芯片、显示器、传感器、MEMS设备、生物芯片等微电子制造领域中。此外，它也被应用于光学、机械和纳米制造等领域。
英文例句
- Electron beam lithography is a high-resolution, direct writing technology for creating nano-scale patterns on a variety of substrates.
- Electron beam lithography is currently one of the most widely used techniques for creating ultra-high resolution patterns, with resolution down to 10 nm.
- Electron beam lithography can be used to create structures for photonics, plasmonics, electronics, and more.
英文近义词
EBL的英文近义词包括：Nanoimprint lithography (NIL), Focused Ion Beam lithography (FIB), X-ray lithography等。
英文反义词
没有严格的英文反义词，但是光刻技术（photolithography）是EBL最常用的对比技术。EBL具有比光刻更高的分辨率和更小的制造尺度。
英文单词常用度
尽管电子束印刷是一个相对较新的技术，但“Electron Beam Lithography”这个词已经出现在大量的学术文章、专利文件和新闻报道中。
在工程、物理、化学等领域的文献中，使用EBL的文献也越来越多。此外，一些高科技公司，如英特尔、IBM和ASML等，也经常使用这个术语。